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Panoramica della linea di produzione del rivestimento sputtering magnetron continuo
Il rivestimento di sputtering continuo di magnetron è una tecnologia avanzata di deposizione di film sottile che utilizza un campo magnetico per controllare la traiettoria di movimento delle travi ioniche in un ambiente a bassa pressione, ottenendo l'adesione sputtering alla superficie del materiale, formando così un strato di film sottile uniforme, denso e ben acceso sul substrato. Questa tecnologia può non solo migliorare la durezza, la resistenza all'usura e la resistenza alla corrosione dei materiali, ma anche alterarsi la loro ottica,
Proprietà elettriche e termiche per soddisfare le esigenze di diversi campi.
Principio di lavoro
Il principio di lavoro del rivestimento continuo di sputtering magnetron è quello di introdurre un campo magnetico sulla superficie del catodo target e utilizzare il campo magnetico per limitare le particelle cariche per aumentare la densità del plasma, aumentando così la velocità di sputtering. Gli ioni argon sono accelerati dal catodo e bombardano la superficie del bersaglio del catodo, sputtering degli atomi dalla superficie bersaglio e depositandoli sulla superficie del substrato per formare un film sottile. Modificando gli obiettivi di materiali diversi e controllando diversi tempi di sputtering, è possibile ottenere pellicole sottili di materiali e spessori diversi.
Vantaggi tecnici
● Alto tasso di deposizione: A causa dell'uso di elettrodi di magnetron, è possibile ottenere una corrente di ioni di bombardamento molto grande, con conseguente elevata velocità di incisione sulla superficie bersaglio e un elevato tasso di deposizione di film sulla superficie del substrato.
● Alta efficienza energetica: la probabilità di collisione tra elettroni a bassa energia e atomi di gas è elevata, con conseguente aumento significativo del tasso di ionizzazione del gas. Di conseguenza, l'impedenza del gas di scarico (o del plasma) è significativamente ridotta. Pertanto, rispetto allo sputtering del diodo DC, anche se la pressione di lavoro è ridotta da 1-10PA a 10-2- 10-1PA, la tensione di sputtering è anche ridotta da diverse migliaia di volt a diverse centinaia di volt e l'efficienza di sputtering e il tasso di deposizione aumentano di ordini di grandezza.
● Sputtering a bassa energia: A causa della bassa tensione del catodo applicata al bersaglio, il plasma è limitato dal campo magnetico nello spazio vicino al catodo, sopprimendo così l'incidenza di particelle cariche ad alta energia su un lato del substrato. Pertanto, il grado di danno causato a substrati come i dispositivi a semiconduttore mediante bombardamento di particelle carico è inferiore rispetto ad altri metodi di sputtering.
● Ampia applicabilità del materiale: Tutti i metalli, le leghe e i materiali ceramici possono essere trasformati in materiali bersaglio; Per sputtering di magnetron a corrente continua o a radiofrequenza, i rivestimenti in metallo o lega puro con rapporti precisi e costanti, nonché film di reazione in metallo con partecipazione al gas, possono essere generati per soddisfare i requisiti di film sottili diversi e ad alta precisione.
Area di applicazione
La tecnologia di rivestimento di sputtering continuo di magnetron è ampiamente utilizzata nelle industrie elettroniche e informazioni, come circuiti integrati, conservazione delle informazioni, display di cristalli liquidi, memoria laser, dispositivi di controllo elettronico, ecc.; Può anche essere applicato nel campo del rivestimento di vetro; Può anche essere applicato a settori come materiali resistenti all'usura, resistenza alla corrosione ad alta temperatura e prodotti decorativi di fascia alta.
La tecnologia di rivestimento sputtering continuo del magnetron svolge un ruolo importante nell'industria moderna grazie alla sua alta efficienza, uniformità e controllabilità. Con il progresso della tecnologia, questa tecnologia continuerà a guidare lo sviluppo di nuovi materiali e prodotti, offrendo più opportunità di innovazione e sviluppo in vari settori.

KOTA Technology Limited Company È stato istituito nel 2012, con un capitale registrato di 10 milioni di yuan, è un'impresa ad alta tecnologia nazionale. Con sede a Shanghai, in Cina, la società ha un certo numero di filiali interamente di proprietà e detengono a Nantong, Yancheng e in altri luoghi nella provincia di Jiangsu e ha istituito centri di ricerca e sviluppo in Cina e Giappone per layout del mercato globale. Allo stato attuale, la società è diventata un noto produttore di attrezzature per le attrezzature intelligenti energetiche nazionali ed è un'impresa nel campo delle apparecchiature di lamina di rame al litio nel paese. Il team tecnico principale dell'azienda guidato da Matsuda Mitsuya a Nagoya, in Giappone, si concentra sullo sviluppo e l'integrazione di attrezzature di produzione di fascia alta e sistema di automazione nel campo di apparecchiature elettromeccaniche ad alta precisione. Attraverso l'introduzione della tecnologia avanzata e dei concetti di progettazione giapponesi e l'importazione di parti di precisione originali dal Giappone, i vari prodotti per le attrezzature prodotti dall'azienda sono diventati parametri di riferimento del settore.








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Visualizza di più 1. Cosa è il rivestimento sputtering di magnetron continuo e come funziona?
Linea di produzione di rivestimento sputtering magnetron è una tecnica di deposizione di film sottile avanzata e altamente precisa utilizzata per migliorare le proprietà del materiale. Funziona introducendo un campo magnetico sulla superficie di un catodo bersaglio, guidando il movimento degli ioni in un ambiente a bassa pressione. Ciò si traduce in un processo di sputtering in cui gli atomi del bersaglio vengono espulsi bombardandoli con ioni argon accelerati e successivamente depositati su un substrato. Questo strato di film sottile può essere personalizzato per soddisfare lo spessore richiesto e le specifiche del materiale variando tempi di sputtering e utilizzando materiali target diversi.
Alla Hongtian Technology Co., Ltd., comprendiamo l'importanza di tecnologie di produzione avanzate come il rivestimento di sputtering di magnetron continuo nel settore moderno. Come società specializzata in attrezzature e soluzioni elettromeccaniche all'avanguardia, ci impegniamo a offrire prodotti di alta qualità che sfruttano le ultime tecnologie. Le nostre capacità di produzione avanzate includono un seminario di produzione completamente attrezzato e un magazzino, garantendo che i nostri prodotti soddisfino i più alti standard di qualità ed efficienza. Il nostro nuovo parco di attrezzature per fogli di elettro-rapita di fascia alta, situato a Yancheng, nella provincia di Jiangsu, fa parte del nostro continuo sforzo per migliorare le nostre offerte tecnologiche. Questa struttura ci consentirà di integrare ulteriormente le tecnologie di rivestimento avanzate, incluso lo sputtering di magnetron, nello sviluppo di materiali di prossima generazione e attrezzature intelligenti per le industrie energetiche ed elettroniche.
Il principio di lavoro dello sputtering del magnetron prevede il controllo del plasma e della densità ionica in modo altamente efficiente. Gli ioni accelerati dal catodo colpiscono il materiale bersaglio, causando espulsione degli atomi bersaglio e quindi depositati su una superficie del substrato. L'uniformità e la densità dello strato di film sottile formato sono gli attributi chiave di questo processo, che lo rendono ideale per applicazioni che richiedono proprietà materiali coerenti, come resistenza all'usura, resistenza alla corrosione e caratteristiche ottiche o elettriche migliorate. Questa versatilità consente di applicare i rivestimenti a una vasta gamma di substrati, fornendo personalizzazione e precisione in settori come elettronica, automobili ed energia.
2. Quali sono i principali vantaggi tecnici dello sputtering del magnetron continuo?
L'uso di elettrodi magnetron crea una grande corrente di bombardamento a ioni, portando a un processo di sputtering accelerato e tassi di deposizione più elevati. Ciò è particolarmente vantaggioso negli ambienti di produzione su larga scala in cui l'efficienza e la velocità sono cruciali.
Lo sputtering Magnetron offre un'elevata efficienza energetica. La collisione di elettroni a bassa energia con atomi di gas comporta un tasso di ionizzazione del gas più elevato, che a sua volta riduce l'impedenza del plasma di scarico. Questa riduzione dell'impedenza significa che il processo di sputtering opera a tensioni e pressioni più basse, con conseguente miglioramento dell'efficienza e una riduzione del consumo di energia. Alla Hongtian Technology Co., Ltd., poniamo grande enfasi sull'efficienza energetica in quanto influisce direttamente sia sui costi di produzione che sulla sostenibilità. Il nostro investimento continuo in impianti di produzione all'avanguardia, come il nostro nuovo parco di attrezzature di fascia alta a Jiangsu, ci aiuta a ottimizzare ulteriormente il consumo di energia e migliorare le prestazioni delle attrezzature che forniamo ai nostri clienti in tutto il mondo.
Un altro vantaggio chiave è lo sputtering a bassa energia, che si traduce in un processo di deposizione più controllato. Il campo magnetico limita il plasma vicino al catodo, riducendo il bombardamento di particelle ad alta energia sul substrato. Questa caratteristica è particolarmente importante quando si lavora con materiali sensibili come i semiconduttori, dove l'esposizione alle particelle ad alta energia può causare danni. Come società impegnata a fornire soluzioni personalizzate e ad alte prestazioni per le industrie che vanno dall'elettronica alle automobilistiche, Hongtian Technology Co., Ltd. integra tecnologie come lo sputtering di Magnetron nelle nostre offerte di prodotti per garantire che soddisfiamo gli standard di altissima qualità minimizzando al minimo i rischi per i materiali delicati.
L'ampia applicabilità del materiale è un altro motivo per l'adozione diffusa di sputtering continuo di magnetron. Il processo è abbastanza versatile da ospitare vari materiali target, tra cui metalli, leghe e ceramiche. Questa flessibilità consente la produzione di film sottili con proprietà specifiche, tra cui rivestimenti metallici, film in lega e film di reazione, che sono cruciali per le industrie che richiedono rivestimenti ad alta precisione, come aerospace, automobili e telecomunicazioni.
3. Quali sono le applicazioni primarie del rivestimento di sputtering magnetron continuo?
Le applicazioni del rivestimento di sputtering del magnetron continuo sono vaste e diverse, che si estendono in più settori. Uno dei settori più importanti è l'industria elettronica e dell'informazione, in cui questa tecnologia viene ampiamente utilizzata nella produzione di componenti come circuiti integrati, semiconduttori e dispositivi di stoccaggio delle informazioni. In queste applicazioni, la capacità di produrre film sottili con proprietà elettriche e ottiche su misura è fondamentale. Lo sputtering del magnetron consente un controllo preciso sullo spessore del film e la composizione del materiale, rendendolo ideale per la creazione di rivestimenti con conducibilità specifica, trasparenza o proprietà riflettenti.
Alla Hongtian Technology Co., Ltd., riconosciamo l'importanza dell'innovazione continua in settori come l'elettronica. Le nostre capacità di produzione, incluso il nuovo parco di attrezzature di fascia alta a Jiangsu, ci consentiranno di continuare a guidare l'innovazione in aree come la produzione di elettronica, dove la personalizzazione di precisione e materiale è fondamentale. Siamo dedicati allo sviluppo di soluzioni all'avanguardia che integrano le ultime tecnologie, tra cui lo sputtering di Magnetron, per fornire ai nostri clienti prodotti di alta qualità che soddisfano le esigenze delle moderne applicazioni.
Un'altra applicazione significativa è il rivestimento di vetro, in particolare per il vetro architettonico e automobilistico. I film sottili creati attraverso lo sputtering di magnetron possono migliorare la durata, la funzionalità e l'aspetto delle superfici di vetro. Ciò include rivestimenti antiriflette, protezione UV e strati di isolamento termico. Questi rivestimenti non solo migliorano il fascino estetico, ma contribuiscono anche all'efficienza energetica riducendo l'assorbimento del calore e migliorando la forza del vetro.
Oltre all'elettronica e ai rivestimenti di vetro, lo sputtering del magnetron è ampiamente utilizzato nel campo dei materiali resistenti all'usura. Questa tecnologia consente la creazione di rivestimenti duri e durevoli che migliorano la resistenza all'usura dei componenti esposti ad un attrito elevato, come parti automobilistiche, macchinari industriali e utensili da taglio. L'elevata resistenza dell'adesione dei film sottili prodotti attraverso lo sputtering del magnetron garantisce che questi rivestimenti rimangano intatti in condizioni operative esigenti, estendendo così la durata della vita dei componenti.