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Descrizione dell'attrezzatura per rivestimento del substrato in ceramica a semiconduttore
● Principio: Iniettare una piccola quantità di gas argon in un contenitore di campo elettrico ad alta tensione sigillato ad alta tensione per ionizzare il gas di argon e generare un flusso di ioni argon, che è diretto verso il materiale target (correlato alla preparazione dello strato composito in metallo di rame nella tecnologia di trasformazione del substrato ceramico DPC). Questo è un passo nel processo tecnologico di elaborazione del substrato ceramico DPC. Sebbene non sia descritto direttamente come specificamente per l'attrezzatura per rivestimento del substrato in ceramica a semiconduttore, appartiene al principio dell'attrezzatura che può essere coinvolto nel processo di metallizzazione del substrato ceramico e può essere utilizzato come riferimento. Lo scopo è quello di sputare e legare uno strato composito in metallo in rame su un substrato ceramico, che è la base per processi successivi come la fabbricazione di circuiti.
● Funzione nel processo: La placcatura di uno strato composito in metallo sul substrato ceramico è un pre-processo importante per la successiva produzione di circuiti e altri processi di substrato ceramico DPC. Attraverso questo metodo, il substrato ceramico può avere una migliore conducibilità e altre proprietà, soddisfacendo le esigenze dei semiconduttori e di altri campi.
Modello dell'attrezzatura: HX1314-4MF
Dimensione dell'attrezzatura: φ1300*H1400

KOTA Technology Limited Company È stato istituito nel 2012, con un capitale registrato di 10 milioni di yuan, è un'impresa ad alta tecnologia nazionale. Con sede a Shanghai, in Cina, la società ha un certo numero di filiali interamente di proprietà e detengono a Nantong, Yancheng e in altri luoghi nella provincia di Jiangsu e ha istituito centri di ricerca e sviluppo in Cina e Giappone per layout del mercato globale. Allo stato attuale, la società è diventata un noto produttore di attrezzature per le attrezzature intelligenti energetiche nazionali ed è un'impresa nel campo delle apparecchiature di lamina di rame al litio nel paese. Il team tecnico principale dell'azienda guidato da Matsuda Mitsuya a Nagoya, in Giappone, si concentra sullo sviluppo e l'integrazione di attrezzature di produzione di fascia alta e sistema di automazione nel campo di apparecchiature elettromeccaniche ad alta precisione. Attraverso l'introduzione della tecnologia avanzata e dei concetti di progettazione giapponesi e l'importazione di parti di precisione originali dal Giappone, i vari prodotti per le attrezzature prodotti dall'azienda sono diventati parametri di riferimento del settore.








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Visualizza di più 1.Perché le apparecchiature di rivestimento del substrato ceramico a semiconduttore sono essenziali per la produzione avanzata dei circuiti?
Attrezzatura per rivestimento in ceramica a semiconduttore è al centro della moderna produzione di semiconduttori, svolgendo un ruolo fondamentale nel migliorare le prestazioni e l'affidabilità dei substrati ceramici utilizzati nei dispositivi elettronici. Il processo di applicazione di uno strato composito in metallo, in genere rame, al substrato ceramico è cruciale per la preparazione di substrati che possono supportare circuiti intricati e soddisfare i requisiti di conducibilità rigorosi dei dispositivi a semiconduttore. Questo rivestimento funge da base per i passaggi successivi, come la fabbricazione di circuiti, garantendo che il substrato ceramico fornisca la conducibilità elettrica e la stabilità termica necessarie per le prestazioni del dispositivo.
Hongtian Technology Co., Ltd., leader nelle apparecchiature di rivestimento del substrato in ceramica a semiconduttore di fascia alta, si impegna a fornire soluzioni avanzate e personalizzate per i produttori nel settore dei semiconduttori. Con la nostra attenzione alla produzione intelligente e alla garanzia dei processi, ci impegniamo a soddisfare le esigenze specifiche dei nostri clienti fornendo prodotti che supportano la creazione di componenti a semiconduttore ad alte prestazioni.
La nostra apparecchiatura di rivestimento del substrato in ceramica a semiconduttore garantisce un'elevata precisione, coerenza ed efficienza nel processo di sputtering. Introducendo il gas di argon in un contenitore sigillato a vacum ad alto livello e ionizzandolo per generare un flusso di ioni argon, consentiamo uno strato composito di metallo liscio e uniforme di legame con il substrato ceramico. Questo legame è essenziale per garantire che i substrati ceramici possano gestire i complessi circuiti che formano la spina dorsale della tecnologia dei semiconduttori. I rivestimenti risultanti migliorano la conducibilità e la durata dei substrati, rendendoli adatti per l'uso in applicazioni altamente impegnative, come microchip, tecnologia a LED e dispositivi di potenza.
Alla Hongtian Technology Co., Ltd., comprendiamo il ruolo critico che i substrati ceramici a semiconduttore svolgono nelle prestazioni dei dispositivi elettronici. Le nostre attrezzature avanzate sono progettate per soddisfare i requisiti precisi di questo settore, fornendo ai produttori gli strumenti di cui hanno bisogno per creare prodotti di alta qualità che si comportano in modo affidabile nelle condizioni più impegnative. Investendo in attrezzature per rivestimento in ceramica a semiconduttore di fascia alta, i nostri clienti sono meglio attrezzati per stare in vantaggio in un mercato competitivo garantendo al contempo la produzione di componenti durevoli e ad alte prestazioni.
2. In che modo il processo di rivestimento funziona per ottenere precisione e qualità?
Il processo di rivestimento utilizzato nella produzione di substrato in ceramica a semiconduttore è altamente specializzato e richiede una tecnologia avanzata per garantire prestazioni ottimali. Alla Hongtian Technology Co., Ltd., la nostra attrezzatura di rivestimento utilizza un contenitore sigillato a vacum ad alto livello, all'interno del quale viene introdotto e ionizzato il gas di argon per generare ioni argon. Questi ioni vengono quindi diretti verso un materiale target, in genere rame, che forma uno strato composito di metallo sottile sulla superficie del substrato ceramico. Questo strato è il primo passo per preparare il substrato per la successiva fabbricazione di circuiti elettronici.
La nostra attrezzatura è progettata per fornire il massimo livello di precisione in questo processo, garantendo che lo strato composito metallico sia applicato uniformemente e che il legame tra metallo e ceramica sia forte e resistente. La tecnica di sputtering di ioni argon utilizzata nella nostra attrezzatura consente un controllo fine sullo spessore e la qualità del rivestimento metallico, che è fondamentale per raggiungere le proprietà di conducibilità e di gestione termica necessarie richieste dai dispositivi a semiconduttore.
La precisione di questo processo di rivestimento è essenziale per garantire che i substrati ceramici possano resistere alle esigenze elettriche e alle sollecitazioni termiche che incontreranno nelle loro applicazioni finali. Un rivestimento scarso o irregolare potrebbe portare a difetti, scarse prestazioni o persino fallimento del componente di semiconduttore finale. Questo è il motivo per cui Hongtian Technology Co., Ltd. pone un'enfasi così forte sulla personalizzazione di fascia alta e sulla produzione intelligente per soddisfare le esigenze specifiche di ciascun cliente, garantendo che i substrati ceramici siano ricoperti dai più alti standard di qualità in mente.
La nostra attrezzatura integra tecnologie di garanzia del processo che consentono ai produttori di monitorare e controllare ogni aspetto del processo di rivestimento. Dall'introduzione del gas argon all'applicazione dello strato composito metallico, ogni fase è attentamente regolata per mantenere la coerenza e la precisione. Questo livello di controllo è essenziale per la produzione di substrati di alta qualità che supporteranno la creazione di dispositivi a semiconduttore affidabili e durevoli. Sfruttando la nostra competenza e la tecnologia avanzata, i nostri clienti possono essere assicurati che stanno utilizzando le migliori attrezzature disponibili per il processo di rivestimento del substrato a semiconduttore.
3. Quali sono i vantaggi chiave dell'utilizzo di apparecchiature di rivestimento di fascia alta nella produzione di semiconduttori?
Di fascia alta attrezzatura per rivestimento in ceramica a semiconduttore Offre una serie di vantaggi cruciali per i produttori che mirano a rimanere competitivi nel settore dei semiconduttori in rapida evoluzione. Alla Hongtian Technology Co., Ltd., ci impegniamo a fornire soluzioni intelligenti e ad alte prestazioni che aiutino i nostri clienti a raggiungere una maggiore efficienza, precisione e affidabilità nei loro processi di produzione.
Uno dei vantaggi principali dell'utilizzo di apparecchiature di rivestimento di fascia alta è la capacità di ottenere uno strato composito di metallo uniforme e di alta qualità sul substrato ceramico. Questa uniformità è essenziale per garantire che il substrato abbia la conducibilità elettrica necessaria e le proprietà termiche necessarie per la creazione di circuiti di semiconduttori.
Un altro vantaggio chiave è la maggiore efficienza e velocità del processo di rivestimento. L'attrezzatura di Hongtian Technology Co., Ltd. è progettata per ottimizzare il processo di sputtering, riducendo i tempi di inattività e aumentando la produttività senza sacrificare la qualità. I nostri sistemi di produzione intelligenti incorporano tecnologie avanzate di controllo dei processi che consentono il monitoraggio e le modifiche in tempo reale, garantendo che il processo di rivestimento sia in esecuzione al massimo dell'efficienza.
Anche l'affidabilità e la durata dei rivestimenti prodotti da attrezzature di fascia alta sono benefici significativi. Il legame forte e coerente tra il composito metallico e il substrato ceramico aiuta a migliorare le prestazioni a lungo termine dei dispositivi a semiconduttore che si basano su questi substrati. Con le nostre attrezzature, i produttori possono produrre substrati in ceramica che funzionano bene a carichi elettrici elevati, alte temperature e altre condizioni impegnative.